光氧催化除臭設(shè)備的工藝原理

 

光氧催化除臭設(shè)備是市場上一種新型高效除臭設(shè)備，采用先進(jìn)的高溫紫外線分解技術(shù)，瞬間分解惡臭氣體，使分解后的氣體不會污染***氣環(huán)境，達(dá)到保護(hù)***氣環(huán)境的目的。

 

光氧催化除臭設(shè)備的工藝原理說明

 

本產(chǎn)品采用***殊的高能、高臭氧紫外光束照射廢氣，裂解工業(yè)廢氣如氨、三甲胺、硫化氫、甲硫醇、甲基硫、二甲基二硫、二硫化碳和苯乙烯、硫化物H2S、VOC、苯、甲苯和二甲苯，使有機(jī)或無機(jī)高分子惡臭化合物的分子鏈在高能紫外光束照射下降解為低分子化合物如CO2、H2O等。

 

光催化氧化除臭設(shè)備利用高能、高臭氧的紫外光束分解空氣中的氧分子，產(chǎn)生游離氧，即活性氧，由于游離氧攜帶的正負(fù)電子不平衡，需要與氧分子結(jié)合產(chǎn)生臭氧。L+O2 → O-+O *(活性氧)O+O2→O3(臭氧)。眾所周知，臭氧對有機(jī)物有很強(qiáng)的氧化作用，對工業(yè)廢氣等刺激性氣味有即時去除作用。

 

工業(yè)廢氣由排氣設(shè)備輸入光催化氧化除臭設(shè)備后，凈化設(shè)備利用高能紫外光和臭氧對工業(yè)廢氣進(jìn)行協(xié)同分解和氧化反應(yīng)，使工業(yè)廢氣降解轉(zhuǎn)化為低分子化合物、水和二氧化碳，然后通過排氣管排出。